近日，彤程新材发布公告，称公司已经完成ArF光刻胶部分型号的开发，获得了重大技术突破，首批 ArF光刻胶的各项出货指标已经能对标国际光刻胶大厂产品。本次公告中最亮眼的是，子公司彤程电子在上海化学工业区的光刻胶工程已竣工，目前已逐步进入试生产阶段，且出货指标也不仅仅是实验室指标，而是工业量产化的指标。

这意味着，我国的国产高端光刻胶已具备量产能力，而配套的相关产品的用量也将随着国产光刻胶的需求井喷而一同上升，尤其是用于光刻胶脱除液的BDO-NMP产业链产品的用量。

目前全球光刻胶市场主要被日本企业垄断，日本TOP 5龙头企业占据全球七成以上的市场份额，美国杜邦占据了剩下三成中的15%。目前我国光刻胶的国产化率不足一成，尤其在高端的ArF、KrF光刻胶方面，国产企业相对疲软。但是彤程的这一突破有望迅速推动国内光刻胶市场的国产化，彤程在投资者交流会上表示，尽管2023年内难以直接出货，但未来1年半左右时间内，公司产品就有望对进口的ArF光刻胶进行替代。

NMP作为性能稳定的有机溶剂，在半导体制造中同样起着重要作用，它作为稀释剂、光刻胶脱除液和半导体面板清洗剂，在半导体制造的多个环节中都起着不可忽视的重要作用。光刻胶的国产化进程在加速的边缘，NMP的用量也有望“水涨船高”，或将推动BDO新的需求增长点。